1.MS450是一臺(tái)高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備。

2.設(shè)備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺(tái)、流量控制系統(tǒng)、真空獲得系統(tǒng)、真空測(cè)量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動(dòng)控制系統(tǒng)等組成。

3.該設(shè)備主機(jī)與控制一體化設(shè)計(jì)，操控方便；結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小。

4.主要用途：

1. 開發(fā)納米級(jí)單層、多層及復(fù)合膜層等。

2. 制備金屬膜、合金膜、半導(dǎo)體膜、陶瓷膜及介質(zhì)膜等，例：銀、鋁、 銅、鎳、鉻、鎳鉻合金、氧化鈦、氮化鈦、氮化鉻、ITO......

3. 兩靶單獨(dú)濺射、依次濺射、共同濺射。

5.應(yīng)用領(lǐng)域：

1. 高校、科研院所的教學(xué)、科研實(shí)驗(yàn)及生產(chǎn)型企業(yè)前期探索性實(shí)驗(yàn)及開發(fā)新產(chǎn)品等。

2. 鈣鈦礦太陽能電池、OLED、OPV 太陽能電池等行業(yè)。